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簡(jiǎn)要描述：加氫除氧氮氣純化裝置利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應生成水的原理，在氮氣中加入氫氣，混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過(guò)冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮氣。
產(chǎn)品型號：廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家 更新時(shí)間：2021-03-09訪(fǎng) 問(wèn) 量：1040 產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 醫療衛生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農業(yè) |
加氫除氧氮氣純化裝置原理；
O2 + H2 ----- HO2
利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應生成水的原理，在氮氣中加入氫氣，混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過(guò)冷卻、吸附兩級干燥除水，得到高純氮氣。
加氫除氧氮氣純化裝置特點(diǎn)：
● 純氣含過(guò)量氫，適合需還原性氣氛的應用，氫含量可調。
● 原理簡(jiǎn)單，結構合理，能耗低
● 氣體指標溫度，雜質(zhì)含量低
● 可選配自動(dòng)系統，實(shí)現無(wú)人值守
● 應用范圍廣，對原料氣無(wú)特殊要求
技術(shù)指標：
普通氮氣：
● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無(wú)要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr
高純氮氣：
● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調)
● 常壓露點(diǎn)——≤－70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮氣量——10～5000Nm3/hr
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